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医学成像中使用的低剂量辐射会导致细胞培养物发生突变

常见的医学成像程序使用被认为是安全的低剂量辐射。然而,一项新的研究发现,在人类细胞培养中,这些剂量会产生断裂,使额外的 DNA 片段能够整合到染色体中。伊拉斯姆斯大学医学中心和 Oncode 研究所的 Roland Kanaar 和 Alex Zelensky 及其同事在 1 月 16 日发表于PLOS Genetics的一项研究中报告了这些新发现。

科学家们早就知道,将细胞暴露在高剂量的电离辐射下会产生双链断裂,从而让 DNA 的外部片段进入,从而产生突变。这些外来的 DNA 片段可能存在于细胞核中,是自然过程(例如基因组 DNA 修复和病毒感染)遗留下来的。在这项新研究中,研究人员通过照射实验室培养的人类和小鼠细胞,研究了低剂量电离辐射是否具有破坏性副作用。当他们计算吸收了外来 DNA 的细胞时,他们发现低剂量辐射(在常见诊断程序的较高范围内)通过插入的 DNA 产生突变比之前研究的大剂量辐射更有效。

虽然细胞培养的新结果可能令人担忧,但该研究的作者强调,将辐射对实验室培养细胞培养物的影响转化为对身体的影响还为时过早。未来使用动物模型进行的实验将有必要确定低剂量辐射的全部影响,以及它在医学成像中的使用是否对患者健康产生影响。如果同样的现象确实发生在体内,那么医生在评估患者接受放射治疗的风险时,可能需要考虑外来 DNA 的水平,例如由长期病毒感染引起的 DNA 水平。

“大多数分子放射生物学研究都集中在与癌症治疗相关的高剂量电离辐射上,而众所周知,生理相关剂量的辐射对细胞的影响很难在分子水平上进行研究,”作者 Roland Kanaar 说。“我们发现外源 DNA 诱变插入细胞基因组对诊断过程中遇到的剂量有显着反应,而不是治疗过程,这提供了一种新的简单而灵敏的工具来研究它们的后果,并揭示了细胞如何应对自然量的令人惊讶的分子遗传学细节DNA 损伤。”

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